真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具有很多種類，包括真空離子蒸發(fā) ，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜設(shè)備在使用中也會(huì)很多問 題，比如鍍出的產(chǎn)品掉膜。下面我們就來介紹一下真空鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜原因。
1.產(chǎn)品表面的潔凈度不夠，離子源清洗氬氣放大時(shí)間過長(zhǎng)。
2.清洗時(shí)是否加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議使用純水先試一下。
3.工藝參數(shù)是否變動(dòng)，在膜厚和電流上可進(jìn)行一些調(diào)整。